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Personen: Krausch, Georg (Autor) 
Mlynek, J├╝rgen (Autor) 
  
Titel: Surface modification in the optical near field
  
Quelle: Microelectronic engineering. Bd. 32. H. 1-4. Amsterdam : Elsevier. S. 219 - 228
Erscheinungsjahr:    1996
ISBN / ISSN: 0167-9317
URL der Originalveröffentlichung doi:10.1016/0167-9317(95)00176-X
  
Dokumentart:
Zeitschriftenaufsatz Zeitschriftenaufsatz
Sprache: Englisch
Open Access:
Person der Universität:   
Einrichtung: Universit├Ątsleitung
DDC-Sachgruppe:    Physik
ID: 53601  Universitätsbibliothek Mainz
Hinweis:
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Abstract: The potential use of optical near-field techniques for lithographic purposes is reviewed. After a brief introduction of the experimental schemes used in scanning near-field optical microscopy (SNOM), we discuss near-field exposure of conventional photo resists, local surface modifications in ultra-thin organic layers, and near-field magneto-optic recording. The state of the art in terms of lateral resolution and speed is discussed in view of possible implementation in technological processes. A brief sketch of possible future developments is given.
   
  
Verfügbarkeit prüfen:    Rechercheportal Mainz: 0167-9317
  KatalogPortal Mainz (inklusive FB 06): 0167-9317
  Elektronische Zeitschriftenbibliothek (EZB): 0167-9317
 


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